Καταλυτική δραστηριότητα | Υψηλή επιλεκτικότητα και ποσοστό μετατροπής |
---|---|
Εφαρμογή | Καταλύτης αφυδάτωσης αλκανίων μακράς αλυσίδας |
Όγκος πόρων | 00,8-1,2 Cm3/g |
Περιεκτικότητα σε υγρασία | Λιγότερο από 1% |
Θερμική σταθερότητα | Μέχρι 1000°C |
Αναγεννησιμότητα | Μπορεί να αναγεννηθεί πολλές φορές χωρίς σημαντική απώλεια δραστηριότητας |
---|---|
Σταθερότητα | Εξαιρετική Σταθερότητα Υπό Δύσκολες Προϋποθέσεις |
Μέγεθος πόρων | Ομοιόμορφη κατανομή μεγέθους πόρων |
Θερμοκρασία λειτουργίας | 30-35°C |
Εφαρμογή | Επιλεκτική υδρογόνωση υδρογονανθράκων C3 |
Τύπος καταλύτη | Υποστηριζόμενος μεταλλικός καταλύτης |
---|---|
Σχήμα | Σφαιρικό |
Δραστηριότητα | Υψηλή δραστηριότητα για υδρογόνωση C3 |
Σταθερότητα | Εξαιρετική Σταθερότητα Υπό Δύσκολες Προϋποθέσεις |
Μέγεθος πόρων | Ομοιόμορφη κατανομή μεγέθους πόρων |
Πλήρης πυκνότητα | 00,65-0,75 G/cm3 |
---|---|
Επιλεκτικότητα υδρογόνωσης | ≥ 95% |
Θερμοκρασία λειτουργίας | 150-250°C |
Μέγεθος σωματιδίων | 1,5-3,0 mm |
Περιοχή επιφάνειας | ≥ 150 M2/g |
Περιοχή επιφάνειας | Υψηλή επιφάνεια για αποτελεσματική καταλυτική δραστηριότητα |
---|---|
Μέγεθος πόρων | Ομοιόμορφη κατανομή μεγέθους πόρων |
Σταθερότητα | Εξαιρετική Σταθερότητα Υπό Δύσκολες Προϋποθέσεις |
Μέγεθος σωματιδίων | Διανομή στενού μεγέθους σωματιδίων |
Θερμοκρασία λειτουργίας | 30-35°C |
Πλήρης πυκνότητα | 00,65-0,75 G/cm3 |
---|---|
Διαρκεια ζωής του καταλύτη | ≥ 3 χρόνια |
Περιοχή επιφάνειας | ≥ 150 M2/g |
Επιλεκτικότητα υδρογόνωσης | ≥ 95% |
Πίεση λειτουργίας | 1-10 MPa |
Ομάδες υδροξυλίου επιφανείας | Υψηλή συγκέντρωση επιφανειακών υδροξυλικών ομάδων |
---|---|
Εφαρμογή | Καταλύτης αφυδάτωσης αλκανίων μακράς αλυσίδας |
Περιεκτικότητα σε υγρασία | Λιγότερο από 1% |
Όγκος πόρων | 00,8-1,2 Cm3/g |
Περιοχή επιφάνειας | 150-170 M2/g |
Active Metal | Palladium |
---|---|
Τύπος καταλύτη | Ετερογενείς |
Thermal Stability | High |
Particle Size | 1-3 mm |
Επιλεκτικότητα | > 95% |
Διαρκεια ζωής του καταλύτη | ≥ 3 χρόνια |
---|---|
Θερμοκρασία λειτουργίας | 150-250°C |
Επιλεκτικότητα υδρογόνωσης | ≥ 95% |
Μέγεθος σωματιδίων | 1,5-3,0 mm |
Όγκος πόρων | ≥ 0,35 ML/g |
Πίεση λειτουργίας | 1-10 MPa |
---|---|
Περιοχή επιφάνειας | ≥ 150 M2/g |
Εγκατάσταση ενεργού συστατικού | ≥ 2 Wt% |
Όγκος πόρων | ≥ 0,35 ML/g |
Περιεχόμενο υλικού υποστήριξης | ≥ 90 Wt% |