Επιλεκτικότητα | 80% |
---|---|
Μέγεθος σωματιδίων | 3-4,5 mm |
Όγκος πόρων | 00,85-0,95 Cm3/g |
Περιοχή επιφάνειας | 150-200 M2/g |
Σχήμα | Σφαιρικό |
Υλικό υποστήριξης | Οξείδιο του αλουμινίου (Al2O3) |
---|---|
Επιλεκτικότητα | Υψηλής επιλεκτικότητας υδρογόνωση C3 |
Τύπος καταλύτη | Υποστηριζόμενος μεταλλικός καταλύτης |
Σταθερότητα | Εξαιρετική Σταθερότητα Υπό Δύσκολες Προϋποθέσεις |
Δραστηριότητα | Υψηλή δραστηριότητα για υδρογόνωση C3 |
Υλικό υποστήριξης | Αλουμινίου |
---|---|
Ενεργό μέταλλο | Παλλάδιο |
Θερμοκρασία λειτουργίας | 60-100°C |
Σχήμα | Σφαιρικό |
Μέγεθος σωματιδίων | 3-4,5 mm |
Εφαρμογή | Επιλεκτική υδρογόνωση του C2 |
---|---|
Βιομηχανία | Χημική βιομηχανία |
Σχήμα | Σφαιρικό |
Υλικό υποστήριξης | Αλουμινίου |
Θερμοκρασία λειτουργίας | 60-100°C |
Βιομηχανία | Χημική βιομηχανία |
---|---|
Υλικό υποστήριξης | Αλουμινίου |
Περιοχή επιφάνειας | 150-200 M2/g |
Σχήμα | Σφαιρικό |
Επιλεκτικότητα | 80% |
Μέγεθος πόρων | Ομοιόμορφη κατανομή μεγέθους πόρων |
---|---|
Αναγεννησιμότητα | Μπορεί να αναγεννηθεί πολλές φορές χωρίς σημαντική απώλεια δραστηριότητας |
Τύπος καταλύτη | Υποστηριζόμενος μεταλλικός καταλύτης |
Περιοχή επιφάνειας | Υψηλή επιφάνεια για αποτελεσματική καταλυτική δραστηριότητα |
Δραστηριότητα | Υψηλή δραστηριότητα για υδρογόνωση C3 |
Ενεργό μέταλλο | Παλλάδιο (Pd) |
---|---|
Μέγεθος σωματιδίων | Διανομή στενού μεγέθους σωματιδίων |
Υλικό υποστήριξης | Οξείδιο του αλουμινίου (Al2O3) |
Δραστηριότητα | Υψηλή δραστηριότητα για υδρογόνωση C3 |
Περιοχή επιφάνειας | Υψηλή επιφάνεια για αποτελεσματική καταλυτική δραστηριότητα |
Υλικό υποστήριξης | Οξείδιο του αλουμινίου (Al2O3) |
---|---|
Σταθερότητα | Εξαιρετική Σταθερότητα Υπό Δύσκολες Προϋποθέσεις |
Περιοχή επιφάνειας | Υψηλή επιφάνεια για αποτελεσματική καταλυτική δραστηριότητα |
Τύπος καταλύτη | Υποστηριζόμενος μεταλλικός καταλύτης |
Μέγεθος σωματιδίων | Διανομή στενού μεγέθους σωματιδίων |
Μέγεθος σωματιδίων | Διανομή στενού μεγέθους σωματιδίων |
---|---|
Μέγεθος πόρων | Ομοιόμορφη κατανομή μεγέθους πόρων |
Περιοχή επιφάνειας | Υψηλή επιφάνεια για αποτελεσματική καταλυτική δραστηριότητα |
Εφαρμογή | Επιλεκτική υδρογόνωση υδρογονανθράκων C3 |
Σταθερότητα | Εξαιρετική Σταθερότητα Υπό Δύσκολες Προϋποθέσεις |
Τύπος καταλύτη | Υποστηριζόμενος μεταλλικός καταλύτης |
---|---|
Σχήμα | Σφαιρικό |
Δραστηριότητα | Υψηλή δραστηριότητα για υδρογόνωση C3 |
Σταθερότητα | Εξαιρετική Σταθερότητα Υπό Δύσκολες Προϋποθέσεις |
Μέγεθος πόρων | Ομοιόμορφη κατανομή μεγέθους πόρων |