products
Είμαι Online Chat Now
Υπεύθυνος Επικοινωνίας : Bai Peng
Τηλεφωνικό νούμερο : +8618254266810
λέξεις-κλειδιά [ selective hydrogenation ] αγώνας 188 προϊόντα.
Γκρι κυλινδρικά σωματίδια καταλύτης υδρογόνωσης για εφαρμογές εύρους πίεσης 1-10 MPa

Γκρι κυλινδρικά σωματίδια καταλύτης υδρογόνωσης για εφαρμογές εύρους πίεσης 1-10 MPa

Εγκατάσταση ενεργού συστατικού ≥ 2 Wt%
Ενεργό συστατικό Pd, Pt, Ni ή Co
Επιλεκτικότητα υδρογόνωσης ≥ 95%
Περιεχόμενο υλικού υποστήριξης ≥ 90 Wt%
Θερμοκρασία λειτουργίας 150-250°C
Καταλύτης υδρογόνωσης C3 με βελτιωμένη σταθερότητα για απαιτητικές εφαρμογές

Καταλύτης υδρογόνωσης C3 με βελτιωμένη σταθερότητα για απαιτητικές εφαρμογές

Αναγεννησιμότητα Μπορεί να αναγεννηθεί πολλές φορές χωρίς σημαντική απώλεια δραστηριότητας
Σταθερότητα Εξαιρετική Σταθερότητα Υπό Δύσκολες Προϋποθέσεις
Μέγεθος πόρων Ομοιόμορφη κατανομή μεγέθους πόρων
Θερμοκρασία λειτουργίας 30-35°C
Εφαρμογή Επιλεκτική υδρογόνωση υδρογονανθράκων C3
Μεγάλη επιφάνεια σφαιρική υδρογόνωση Καταλύτης Βέλτιστη λύση για καταλυτικές αντιδράσεις

Μεγάλη επιφάνεια σφαιρική υδρογόνωση Καταλύτης Βέλτιστη λύση για καταλυτικές αντιδράσεις

Σχήμα Σφαιρικό
Μέγεθος πόρων Ομοιόμορφη κατανομή μεγέθους πόρων
Επιλεκτικότητα Υψηλής επιλεκτικότητας υδρογόνωση C3
Ενεργό μέταλλο Παλλάδιο (Pd)
Εφαρμογή Επιλεκτική υδρογόνωση υδρογονανθράκων C3
Σφαιρική δραστηριότητα Καταλύτης υδρογόνωσης C3 Επιτρέπει τη μέγιστη επιλεκτικότητα με αναγεννησιμότητα

Σφαιρική δραστηριότητα Καταλύτης υδρογόνωσης C3 Επιτρέπει τη μέγιστη επιλεκτικότητα με αναγεννησιμότητα

Σχήμα Σφαιρικό
Υλικό υποστήριξης Οξείδιο του αλουμινίου (Al2O3)
Δραστηριότητα Υψηλή δραστηριότητα για υδρογόνωση C3
Περιοχή επιφάνειας Υψηλή επιφάνεια για αποτελεσματική καταλυτική δραστηριότητα
Επιλεκτικότητα Υψηλής επιλεκτικότητας υδρογόνωση C3
3-4,5 mm Παλλάδιο ενεργός μεταλλικός καταλύτης με 80% επιλεκτικότητα για τη χημική βιομηχανία

3-4,5 mm Παλλάδιο ενεργός μεταλλικός καταλύτης με 80% επιλεκτικότητα για τη χημική βιομηχανία

Επιλεκτικότητα 80%
Υλικό υποστήριξης Αλουμινίου
Περιοχή επιφάνειας 150-200 M2/g
Ενεργό μέταλλο Παλλάδιο
Εφαρμογή Επιλεκτική υδρογόνωση του C2
60-100°C Επαναχρησιμοποιήσιμος καταλύτης υδρογόνωσης H2 150-200 M2/G Περιοχή επιφάνειας

60-100°C Επαναχρησιμοποιήσιμος καταλύτης υδρογόνωσης H2 150-200 M2/G Περιοχή επιφάνειας

Επαναχρησιμοποίηση - Ναι, ναι.
Υλικό υποστήριξης Αλουμινίου
Θερμοκρασία λειτουργίας 60-100°C
Επιλεκτικότητα 80%
Περιοχή επιφάνειας 150-200 M2/g
Ενεργός καταλύτης υδρογόνωσης παλλαδίου μετάλλου Μεγάλος όγκος πόρων 0,85-0,95 Cm3/g για ακριβείς και ελεγχόμενες αντιδράσεις

Ενεργός καταλύτης υδρογόνωσης παλλαδίου μετάλλου Μεγάλος όγκος πόρων 0,85-0,95 Cm3/g για ακριβείς και ελεγχόμενες αντιδράσεις

Επαναχρησιμοποίηση - Ναι, ναι.
Όγκος πόρων 00,85-0,95 Cm3/g
Υλικό υποστήριξης Αλουμινίου
Πίεση 3.5Mpa
Βιομηχανία Χημική βιομηχανία
Ενεργός καταλύτης υδρογόνωσης επιλεκτικού παλλαδίου C3 Ενιαίο μέγεθος 30-35.C h2 pd καταλύτης

Ενεργός καταλύτης υδρογόνωσης επιλεκτικού παλλαδίου C3 Ενιαίο μέγεθος 30-35.C h2 pd καταλύτης

Τύπος καταλύτη Υποστηριζόμενος μεταλλικός καταλύτης
Μέγεθος σωματιδίων Διανομή στενού μεγέθους σωματιδίων
Σχήμα Σφαιρικό
Δραστηριότητα Υψηλή δραστηριότητα για υδρογόνωση C3
Ενεργό μέταλλο Παλλάδιο (Pd)
Σφαιρικός καταλύτης Pd 60-100°C 3,5 MPa με βελτιωμένη επιλεκτικότητα υδρογόνωσης

Σφαιρικός καταλύτης Pd 60-100°C 3,5 MPa με βελτιωμένη επιλεκτικότητα υδρογόνωσης

Όγκος πόρων 00,85-0,95 Cm3/g
Σχήμα Σφαιρικό
Πίεση 3.5Mpa
Επιλεκτικότητα 80%
Υλικό υποστήριξης Αλουμινίου
Καταλύτης υδρογόνωσης σφαιρικού C3 με εξαιρετική σταθερότητα

Καταλύτης υδρογόνωσης σφαιρικού C3 με εξαιρετική σταθερότητα

Σχήμα Σφαιρικό
Σταθερότητα Εξαιρετική Σταθερότητα Υπό Δύσκολες Προϋποθέσεις
Περιοχή επιφάνειας Υψηλή επιφάνεια για αποτελεσματική καταλυτική δραστηριότητα
Μέγεθος πόρων Ομοιόμορφη κατανομή μεγέθους πόρων
Επιλεκτικότητα Υψηλής επιλεκτικότητας υδρογόνωση C3
< Previous 2 3 4 5 6 Next > Last Total 19 page